硅碳CVD、、乙炔包覆回转炉
专业用于硅碳负极CVD气相沉积工艺。
选件：：
产品特点
1、、烧结周期短：：动态烧结方式，，，热传导速度快，，，大大缩短烧结周期，，，相对能耗优于其他炉型；；；
2、、物料品质均匀：：物料在炉内的活动状态为动态的前进和翻转，，，受热均匀，，，确保了物料充分烧结，，，物料品质一致性好；；；
3、、单机产能可扩产：：较大单机产能，，，且易于实现规模放大，，，单台设备产能可达5-200kg/批，，，且有实现陆续化出产的可能；；；
4、、安全系数高：：炉内微正压，，，排气结构单一，，，可有效泄压，，，安全机能相对较高。
产品详情
| 额定温度 | 控温精度 | 烧结空气 | 出产方式 | 单次处置量 |
| 600℃ | ±1℃ | 氮气,硅烷,乙炔 | 间歇式、、陆续式 | 5-200kg/批 |
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